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KOKUSAI ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス’s Journey

The first iteration of our company was the Deposition Process Solutions business (semiconductor manufacturing equipment business) of Hitachi Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Inc. (formerly Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Co., Ltd.), a subsidiary of Hitachi, Ltd.

Aiming to optimize the Video and Communications Solutions and Deposition Process Solutions businesses operated at the time by Hitachi Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Inc., Hitachi, Ltd. and Hitachi Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Inc. decided to spin off the Deposition Process Solutions business to the investment company Kohlberg Kravis Roberts & Co. L.P. (hereinafter “KKR”), its new capital partner, in February 2017. Then HKE Holdings Co., Ltd. (a special purpose company operated and managed by KKR) made a tender offer for shares of Hitachi Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Inc., and Hitachi Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Inc. was delisted from the 1st Section of the Tokyo Stock Exchange in March 2018. In May 2018, Hitachi Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Inc. became a subsidiary of HKE Holdings Co., Ltd.

In June 2018, Hitachi Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Inc. spun off its Deposition Process Solutions business to HKE Holdings Co., Ltd. and its name was changed to KOKUSAI ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス CORPORATION, as it remains to this day.

Foundation ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス 1980s
1990s
2000s
2010s
2020s

Foundation ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス 1980s

1949: Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Co., Ltd. is established, which mainly manufactures and sells telecommunications and high-frequency application equipment

1956: Receives order for single germanium/silicon crystal puller, and launches semiconducウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナスr manufacturing equipment business

1961: Develops world’s first lifetime measurement system and resistivity measurement system for measuring performance of single siliウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナスn crystal with high frequency application

1961: Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Co., Ltd. is listed on the Tokyo Stock Exchange (listed on 1st Section that October)

1963: Starts researching impurity diffusion in semiconducウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナスr manufacturing equipment

1964: Research on impurity diffusion in semiconducウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナスr device manufacturing leads ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス development of diffusion furnace

1970: Develops CVD system

1971: Establishes Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Co., of America (now Kokusai Semiconductor Equipment Corporation), a subsidiary based in Delaware, US

1977: Establishes Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Europe GmbH (now Kokusai Semiconductor Europe GmbH), a subsidiary based in Düsseldorf, Germany

1983: Develops 150-mm wafer-ready siliウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナスn epitaxial growth system (DC-7000)

1985: Launches VERTRON® vertical CVD diffusion system

1987: Develops 150-mm wafer-ready vertical CVD system (VERTRON®-II)

1989: Establishes KOKUSAI ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス SYSTEM SERVICE CO.,LTD (now Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Semiconductor Service Inc.)

1989: ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナスyama Works (now ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナスyama Technology & Manufacturing Center) begins operations

1990s

1990: Develops 200-mm wafer-ready vertical CVD system (VERTRON®-III)

1990: Develops load-lock system that suppresses natural oxide film formation (VERTRON®-Ⅴ(C))

1991: Opens ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナスyama Works (now ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナスyama Technology & Manufacturing Center) Training Center

1993: Establishes Kook Je ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Korea Co., Ltd., a consolidated subsidiary in Cheonan, South Korea

1996: Establishes Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Asia Pacific Co., Ltd. in Taiwan

1996: Develops 300-mm wafer-ready vertical diffusion/CVD system (ZESウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナスNE®-III)

1996: Develops 300-mm wafer-ready single wafer CVD system (ZESウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナスNE®-VII)

2000s

2000: Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Co., Ltd., Hitachi Denshi, Ltd., and Yagi Antenna Co., Ltd. merge to form "Hitachi Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Inc."

2001: Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス System Service Inc. transfers its communication and information division to Hitachi Electronics System Service Co., Ltd. and its name is changed to Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Semiconductor Service Inc.

2002: Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Asia Pacific Co., Ltd. establishes Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Asia Pacific Shanghai Ltd. (now KE Semiconductor Equipment (Shanghai) Co., Ltd.)

2002: Develops single wafer plasma nitridation system suitable for next-generation processes (MARORA®)

2003: Develops QUIXACE® that inウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナスrporates Q-TAT (Quick-Turn Around Time)

2005: Develops NEW QUIXACE® L/L (QLV2)

2008: Develops high-productivity ashing/annealing system TANDUO®

2010s

2010: Kook Je ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Korea Co., Ltd. Pyeongtaek Factory is built

2011: Develops QUIXACE ULTIMATE®

2011: Kook Je ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Korea Co., Ltd. Cheonan Factory is expanded

2015: Develops high-productivity vertical system, AdvancedAce®-300

2017: HKE Holdings LLC (now KOKUSAI ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス CORPORATION) is established in Marunouchi, Chiyoda Ward, Tokyo

2017: ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナスyama Works (now ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナスyama Technology & Manufacturing Center) Tsurugi-Kan is completed

2017: HKE Holdings LLC becomes HKE Holdings Co., Ltd. (now KOKUSAI ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス CORPORATION)

2018: Hitachi Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Inc. is delisted from the 1st Section of the Tokyo Stock Exchange

2018: HKE Holdings Co., Ltd. (now KOKUSAI ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス CORPORATION) acquires 100% ownership of Hitachi Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Inc.

2018: Hitachi Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Inc.’s Deposition Process Solutions business is spun off to HKE Holdings Co., Ltd., and its name is changed to KOKUSAI ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス CORPORATION

2018: 20% of common shares of Hitachi Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Inc., a wholly-owned subsidiary of KOKUSAI ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス CORPORATION, are sold to Hitachi, Ltd. and 20% to HVJ Holdings Inc., and it becomes a non-consolidated subsidiary

2018: Head office moves from Marunouchi, Chiyoda Ward, ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナスkyo ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Kanda, Chiyoda Ward, ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナスkyo

2019: Develops AdvancedAce® II

2020s

2020: Develops TSURUGI-C2® 剱®, a high-quality deposition and high-performance semiconducウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナスr manufacturing equipment

2020: KOKUSAI ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス CORPORATION sells all shares of Hitachi Kokusai ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Inc. to HVJ Holdings Inc., so it is no longer a subsidiary

2021: ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナスyama Technology & Manufacturing Center obtains ISO 45001 certification

2021: ¥9.9 billion of other capital surplus is transferred ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス capital, for a free capital increase of ¥10 billion in capital

2022: Corporate slogan “Technology & Tai-wa for ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナスmorrow” is formulated

2022: New Corporate Philosophy, “KOKUSAI ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス Way,” is formulated

2023: KOKUSAI ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス CORPORATION was listed on the "Prime Market" section of the Tokyo Stock Exchange.

Note:: VERTRON, ZESTONE, MARORA, QUIXACE, QUIXACE ULTIMATE, TANDUO, AdvancedAce, and TSURUGI-C2 and 剱 logo are registered trademarks of KOKUSAI ウィリアムヒルカジノ入金不要ボーナス CORPORATION.